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光刻/曝光/紫外光刻/接觸式光刻/stepper曝光/步進式曝光
實驗須知
實驗提交后提交內容僅作為平臺實驗評估使用,不代表一定進行實驗。

樣品要求:

1.6寸向下兼容

2.接觸式曝光,最小線寬1um,stepper曝光,最小線寬500nm


聯系人
楊老師: 18301325784
  • Q
    是否需要回收樣品
  • 樣品 1
    樣品名稱
  • 1.1
    樣品材質
    *
  • 1.2
    樣品尺寸
    *
  • 1.3
    樣品表面情況
    * 有無金屬,氧化層等
  • 1.4
    光刻工藝
    * 接觸式光刻(最小線寬1um,可做6寸以下,包括碎片),Stepper光刻(最小線寬500nm,可做2,4,6寸)
  • 1.5
    光刻膠種類以及厚度
    * 正膠負膠?型號?
  • 1.6
    最小線寬
  • 1.7
    是否需要加工光刻版
    * 如果需要委托平臺進行光刻板加工請在下方上傳版圖;如果提供stepper版,請確認版上有對應的識版標記
  • 1.8
    雙面曝光
  • 1.9
    光刻精度要求
  • 1.10
    是否需要對準
    * 需要2個對準標記,在一條平行線上間隔50mm以上
  • 1.11
    其他要求
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(當您的樣品測試要求或測試需求不一樣,您可以再增加一組樣品)
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實驗方式
合計費用約
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